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申请/专利权人：松山湖材料实验室;广东中民工业技术创新研究院有限公司
摘要：一种具有超薄缓冲层结构的复合衬底及其制备方法、紫外发光器件，属于复合材料领域。复合衬底包括衬底、以及形成于衬底表面的超薄缓冲层结构，超薄缓冲层结构包括：形成于衬底的表面的第一单晶氮化铝薄膜，形成于第一单晶氮化铝薄膜上的Al0.55Ga0.45NAlN超晶格结构缓冲层，以及形成于超晶格结构缓冲层的表面的第二单晶氮化铝薄膜；第一单晶氮化铝薄膜、超晶格结构缓冲层及第二单晶氮化铝薄膜的应力状态均为张应力。复合衬底通过缓冲层结构的变化实现缓冲层整体呈张应力且厚度大幅度减薄，使其不仅能够进行紫外发光器件的外延制备，而且能够降低紫外发光器件的制备难度及制备成本，提高产品质量。
主权项：1.一种具有超薄缓冲层结构的复合衬底，其特征在于，包括衬底以及形成于所述衬底的表面的超薄缓冲层结构，所述超薄缓冲层结构的厚度为100nm-150nm；所述超薄缓冲层结构包括：形成于所述衬底的表面的第一单晶氮化铝薄膜，形成于所述第一单晶氮化铝薄膜的表面的超晶格结构缓冲层，以及形成于所述超晶格结构缓冲层的表面的第二单晶氮化铝薄膜；其中，所述第一单晶氮化铝薄膜、所述超晶格结构缓冲层以及所述第二单晶氮化铝薄膜的应力状态均为张应力，所述超晶格结构缓冲层包括交替且呈周期性层叠布置的单晶Al0.55Ga0.45N缓冲层与单晶AlN缓冲层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 松山湖材料实验室 广东中民工业技术创新研究院有限公司 具有超薄缓冲层结构的复合衬底及其制备方法、紫外发光器件
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