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一种用于提高光刻胶附着性的添加剂及其光刻胶组合物 

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申请/专利权人:上海艾深斯科技有限公司

摘要:本发明属于光刻胶技术领域,尤其涉及一种用于提高光刻胶附着性的添加剂及其光刻胶组合物。一种用于提高光刻胶附着性的添加剂,所述添加剂包含结构式I的化合物和锆丙烯酸酯。本发明先通过有机合成方法制备得到一种新型化合物,并筛选得到合适特征参数的锆丙烯酸酯,将二者组合得到的新型添加剂,通过实验测试,证明加入了该添加剂的光刻胶不仅具有很好的基底附着性,同时还具备良好的耐抗蚀性和较高的分辨率。

主权项:1.一种用于提高光刻胶附着性的添加剂,其特征在于,所述添加剂包含结构式I的化合物和锆丙烯酸酯, 式I。

全文数据:

权利要求:

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