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申请/专利权人：潍坊星泰克微电子材料有限公司
摘要：本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及一种基于碱去活性机理的环氧树脂正性光刻胶及制备方法，本发明制备的高韧改性环氧树脂具有更好的韧性，这种改性剂能够与环氧树脂发生有效的化学反应，增强分子链间的相互作用，从而显著提高材料的抗冲击、抗拉伸等机械性能，能够有效保护光刻胶在制造过程中避免刮损和化学侵蚀；其次，本发明提供的基于碱去活性机理的环氧树脂正性光刻胶，在做成光刻胶膜后，非曝光区内的碱性催化剂组分能够催化环氧树脂发生交联反应，从而使其不溶于显影液，曝光区在经过紫外光曝光后，光产酸剂产生化合物与碱性催化剂反应使其失活，不再催化交联反应，胶膜在经过显影液显影后，能够形成正性图像。
主权项：1.一种基于碱去活性机理的环氧树脂正性光刻胶，其特征在于，所述基于碱去活性机理的环氧树脂正性光刻胶的组成包括：高韧改性环氧树脂、溶剂组分、碱性催化剂组分和光产酸剂组分；所述高韧改性环氧树脂为以2，2-双[4-（3-羧基酞酰亚胺基苯氧基）苯基]丙烷对环氧树脂改性后制得。
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权利要求：
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