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申请/专利权人：上海联影医疗科技股份有限公司
摘要：本申请涉及一种成像系统的交叉散射校正方法、装置和计算机设备，其中，该方法包括：通过探测模块对扫描对象进行扫描，获取投影数据和总射线信号；基于扫描参数确定所匹配模体的卷积内核；并根据投影数据和卷积内核，确定交叉散射信号之和；对交叉散射信号之和进行处理，得到目标单峰信号；卷积内核由在所述扫描参数下对具有各类模体的成像系统进行模拟确定；根据总射线信号和目标单峰信号，对每组探测模块中的探测器的交叉散射进行校正。通过本申请，解决了相关技术中存在需要额外增加器件和辐射剂量的情况下，无法消除交叉散射带来的影响的问题，在不需要额外增加器件下实现了对交叉散射的校正，保障校正效果。
主权项：1.一种成像系统的交叉散射校正方法，其特征在于，所述成像系统包括至少两组探测模块，每组探测模块设置对应的扫描参数；每组所述探测模块包括一个辐射源和一个探测器；所述探测器与所述辐射源相对设置；所述方法包括：通过所述探测模块对扫描对象进行扫描，获取投影数据和总射线信号；基于所述扫描参数确定所匹配模体的卷积内核；并根据所述投影数据和卷积内核，确定交叉散射信号之和；对所述交叉散射信号之和进行处理，得到目标单峰信号；所述卷积内核由在所述扫描参数下对具有各类所述模体的成像系统进行模拟确定；根据所述总射线信号和所述目标单峰信号，对每组所述探测模块中的所述探测器的交叉散射进行校正。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海联影医疗科技股份有限公司 成像系统的交叉散射校正方法、装置和计算机设备
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