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申请/专利权人：西北工业大学
摘要：本发明公开了一种本征型负性光敏聚酰亚胺材料及其制备方法和应用，涉及聚酰亚胺材料技术领域。本发明将一类双酰亚胺二炔单体与系列二硫醇采用巯基‑炔点击化学制备主链含有光敏性乙烯硫醚基元的聚酰亚胺。将其溶于有机溶剂中旋转涂布后，无需添加任何小分子助剂即可以利用掩膜版进行光刻。由于曝光区域的聚合物发生交联，与未曝光区域形成显著的溶解性差异，经显影后得到高分辨率的光刻图案。此外，由于采用完全亚胺化结构的聚合物进行光刻，无需再经后续高温热亚胺化处理，避免了高温带来的不利因素，有望在光学、电子领域中得到很好的应用。
主权项：1.一种本征型负性光敏聚酰亚胺，其特征在于，其结构通式如下： 其中，R表示以下结构式中的任意一种： ；Ar表示芳香环或脂肪环基元。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西北工业大学 一种本征型负性光敏聚酰亚胺材料及其制备方法和应用
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