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申请/专利权人：暨南大学

摘要：本发明涉及光纤传感器技术领域，公开了一种折射率光纤传感器制造方法，其特征在于，包括如下步骤：熔接：在两段单模光纤之间熔接一段空心光纤，形成单模‑空心‑单模光纤；抛磨：对熔接完成的单模‑空心‑单模光纤的空心光纤进行抛磨，抛磨至空心光纤整体的一半，空心光纤中心形成D型槽；化学处理：将抛磨完成的单模‑空心‑单模光纤浸泡在食人鱼溶液中，去除D型槽内残留的有机杂质并使槽壁表面羟基化，将浸泡完成后的单模‑空心‑单模光纤用去离子水冲洗；本发明构成了最小能在亚纳升量级样品体积下高灵敏度的折射率光纤传感器，为全光纤光流控芯片的开发和实现体外生物化学医药材料等领域的高精度、快速、超低污染检测提供了一种新方法。

主权项：1.一种折射率光纤传感器制造方法，其特征在于，包括如下步骤：熔接：在两段单模光纤之间熔接一段空心光纤，形成单模-空心-单模光纤；抛磨：对熔接完成的单模-空心-单模光纤的空心光纤进行抛磨，抛磨至空心光纤整体的一半，空心光纤中心形成D型槽；化学处理：将抛磨完成的单模-空心-单模光纤浸泡在食人鱼溶液中，去除D型槽内残留的有机杂质并使槽壁表面羟基化，将浸泡完成后的单模-空心-单模光纤用去离子水冲洗；烘干：将冲洗完成后的单模-空心-单模光纤烘干；固定：将烘干后的单模-空心-单模光纤水平拉伸，利用紫外光胶固定在清洗干净的玻璃片上；添加样品：将待测样品加入到单模-空心-单模光纤的D型槽内；熔接步骤具体包括：S11：将一根单模光纤通过熔接的方式与空心光纤对准，并通过调整熔接设备的电弧电流和持续熔接时间，确保焊接面完整的情况下熔接，形成单模空心光纤；S12：将熔接好的单模空心光纤的一端放在三维可调位移平台上，通过长工作距离的显微镜观察单模空心光纤中的空心光纤距离切割刀刀口位置，调节三维可调位移平台的旋钮，用显微镜测量单模空心光纤中的空心光纤长度d，确定长度后用切割刀切割空心光纤的多余部分；S13：再将另一根单模光纤通过熔接的方式与单模空心光纤的空心光纤的自由端对准，并通过调整熔接设备的电弧电流和持续熔接时间，确保焊接面完整的情况下熔接，形成单模-空心-单模光纤；抛磨步骤具体包括：S21：将熔接完成的单模-空心-单模光纤转移固定到轮式抛磨机上；S22：在单模-空心-单模光纤两端相应连接单波长的光源和光功率计，用光功率计记录抛磨前后的功率，在功率下降至30-40dB时停止抛磨；S23：从轮式抛磨机上取下单模-空心-单模光纤，用酒精擦拭，之后用显微镜观察剩余厚度，直至抛磨到单模-空心-单模光纤的空心光纤一半时为止。

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