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申请/专利权人：朗姆研究公司
摘要：本公开的系统和方法对衬底处理系统中的各种非均匀性进行原位感测和实时补偿。通过确定设置在衬底支撑件中的多个微型加热器的矩阵上的温度分布来感测等离子体非均匀性。替代地，通过使用矩阵加热器和用于加热衬底支撑件的一个或多个区域的一个或多个加热器确定穿过衬底支撑件的热通量来感测等离子体非均匀性。等离子体非均匀性通过调整一个或多个参数来补偿，所述参数例如提供给矩阵加热器的功率、被提供以产生等离子体的射频功率、用于产生等离子体的一种或多种气体的化学性质和或流速、热控制单元或制冷器的设置等。此外，衬底支撑件中固有的非均匀性使用区域和矩阵加热器感测，并通过调整一个或多个参数进行补偿。
主权项：1.一种衬底处理系统，其包括：被布置在衬底支撑件中的矩阵加热器，所述矩阵加热器包括被布置成矩阵以在处理期间控制半导体衬底的温度的多个加热器元件；和控制器，其被配置为在向所述矩阵加热器的所述多个加热器元件提供预定功率并在所述处理期间产生等离子体的同时：确定所述多个加热器元件的第一电阻；改变与所述处理相关联的一个参数，同时保持与所述处理相关联的其他参数恒定；响应于改变所述一个参数来确定所述多个加热器元件的第二电阻；以及基于所述多个加热器元件的所述第一电阻和所述第二电阻来确定所述等离子体的均匀性。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 朗姆研究公司 衬底处理系统中非均匀性的原位实时感测和补偿
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