龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：北京特思迪半导体设备有限公司
摘要：本发明提供一种用于原位测量膜厚的方法及化学机械抛光设备，所述方法包括根据晶圆薄膜的反射光谱和等效光源光谱生成实测光谱，所述等效光源光谱是利用经过抛光液以及抛光液与准直光源探头之间的介质层的反射光所生成的波长与光强度对应关系数据；将所述实测光谱与参考光谱库进行匹配；获取与所述实测光谱匹配的参考光谱所对应的晶圆薄膜厚度作为检测结果。
主权项：1.一种用于原位测量膜厚的方法，其特征在于，包括：根据晶圆薄膜的反射光谱和等效光源光谱生成实测光谱，所述等效光源光谱是在放置晶圆之前，在抛光垫上添加抛光液的状态下利用经过抛光液以及抛光液与准直光源探头之间的介质层的反射光所生成的波长与光强度对应关系数据，所述介质层包括设置于抛光盘和抛光垫上的透光密封层、抛光液形成的体相水层；将所述实测光谱与参考光谱库进行匹配，所述参考光谱库是利用光谱计算模型针对给定的晶圆薄膜厚度所生成的参考光谱的集合，或者所述参考光谱是实测数据，所述实测数据是针对已知厚度的晶圆薄膜采集的光谱，其中晶圆薄膜的厚度是采用非光谱法、接触式或非接触式的仪器和方法得到的测量值；获取与所述实测光谱匹配的参考光谱所对应的晶圆薄膜厚度作为检测结果。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京特思迪半导体设备有限公司 用于原位测量膜厚的方法及化学机械抛光设备
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号