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紫外激光器及其制备方法 

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申请/专利权人:山西浙大新材料与化工研究院;中国科学院半导体研究所

摘要:本发明提供一种紫外激光器及其制备方法,紫外激光器包括从下至上依次层叠设置的N电极层、衬底、下限制层、下波导层、空穴阻挡层、多量子阱层、上波导层、电子阻挡层、上限制层、欧姆接触层以及P电极层;本发明通过设置Al组分梯度渐变的空穴阻挡层,能够减少空穴泄露到n侧;通过设置Al组分梯度渐变的电子阻挡层,优化电子阻挡层的有效势垒高度,不仅能够减少电子泄漏到p侧,还能使空穴更容易经过电子阻挡层注入有源区,提高了空穴的注入,从而可以提高紫外激光器的输出功率以及获得更低的阈值电流。此外,由于渐变组分使得折射率发生变化,能够使光场偏离p侧,从而提升了紫外激光器的光电性能。

主权项:1.一种紫外激光器,其特征在于,包括从下至上依次层叠设置的:N电极层、衬底、下限制层、下波导层、空穴阻挡层、多量子阱层、上波导层、电子阻挡层、上限制层、欧姆接触层以及P电极层;其中,所述空穴阻挡层包括从下至上依次层叠设置的:第一空穴阻挡子层、第二空穴阻挡子层、第三空穴阻挡子层以及第四空穴阻挡子层;所述第一空穴阻挡子层的材料为AlaGa1-aN;所述第二空穴阻挡子层的材料为Alx1Ga1-x1N,在所述第二空穴阻挡子层中,从下至上Alx1Ga1-x1N材料的x1从a逐渐降低到b,0ba1;所述第三空穴阻挡子层的材料为AlbGa1-bN;所述第四空穴阻挡子层的材料为Alx2Ga1-x2N,在所述第四空穴阻挡子层中,从下至上Alx2Ga1-x2N材料的x2从b逐渐降低到c,0cb;所述电子阻挡层包括从下至上依次层叠设置的:第一电子阻挡子层、第二电子阻挡子层、第三电子阻挡子层以及第四电子阻挡子层;所述第一电子阻挡子层的材料为Alx3Ga1-x3N,在所述第一电子阻挡子层中,从下至上Alx3Ga1-x3N材料的x3从d逐渐增加到e,0de1;所述第二电子阻挡子层的材料为AleGa1-eN;所述第三电子阻挡子层的材料为Alx4Ga1-x4N,在所述第三电子阻挡子层中,从下至上Alx4Ga1-x4N材料的x4从e逐渐增加到f,ef1;所述第四电子阻挡子层的材料为AlfGa1-fN。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 山西浙大新材料与化工研究院 中国科学院半导体研究所 紫外激光器及其制备方法

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