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申请/专利权人：景德镇陶瓷大学
摘要：本实用新型公开了一种超声波CVD镀纳米膜设备，包括密闭腔室、旋转平台、进气系统、排气系统和温控系统，密闭腔室内设置有旋转平台和温控系统，密闭腔室的顶部设置有进气系统、底部设置有排气系统，进气系统位于旋转平台的上方，旋转平台用于放置基板。本实用新型采用旋转平台，可提高沉积薄膜均匀性；通过设置进气系统、排气系统和温控系统，能够排出杂质干扰，降低能耗，提高工作效率和沉积质量。
主权项：1.一种超声波CVD镀纳米膜设备，其特征在于：包括密闭腔室、旋转平台、进气系统、排气系统和温控系统，所述密闭腔室内设置有所述旋转平台和所述温控系统，所述密闭腔室的顶部设置有所述进气系统、底部设置有所述排气系统，所述进气系统位于所述旋转平台的上方，所述旋转平台用于放置基板。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 景德镇陶瓷大学 一种超声波CVD镀纳米膜设备
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