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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供滤波器单元的调整方法和等离子体处理装置。减小针对电性构件设置的滤波器单元的频率特性的偏差。等离子体处理装置中的滤波器单元的调整方法包括第一测定工序和调整工序。在第一测定工序中，测定多个滤波器单元中的作为基准的滤波器单元的频率特性。在调整工序中，调整除作为基准的滤波器单元以外的滤波器单元的频率特性。在调整工序中包括安装工序、第二测定工序以及单独调整工序。在安装工序中，安装用于调整滤波器单元内的配线的电容的电容构件。在第二测定工序中，测定安装有电容构件的滤波器单元的频率特性。在单独调整工序中，调整电容构件的电容，使得安装有电容构件的滤波器单元的频率特性接近作为基准的滤波器单元的频率特性。
主权项：1.一种滤波器单元的调整方法，是等离子体处理装置中的滤波器单元的调整方法，所述等离子体处理装置具备：多个电性构件，所述多个电性构件设置于利用所生成的等离子体对被处理体进行处理的腔室内；以及外部电路，其设置于所述腔室的外部，所述外部电路经由包括线圈的滤波器单元来与各个所述电性构件连接，其中，各个所述滤波器单元被金属壳体覆盖，所述滤波器单元的调整方法包括：第一测定工序，测定多个所述滤波器单元中的基准滤波器单元的频率特性；以及调整工序，调整多个所述滤波器单元中的除所述基准滤波器单元以外的其它滤波器单元的频率特性，其中，所述调整工序包括：安装工序，在所述其它滤波器单元的所述线圈与所述金属壳体之间安装用于调整所述其它滤波器单元内的配线的电容的电容构件；第二测定工序，测定安装有所述电容构件的所述其它滤波器单元的频率特性；以及单独调整工序，调整所述电容构件的电容，使得安装有所述电容构件的所述其它滤波器单元的频率特性接近所述基准滤波器单元的频率特性。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 滤波器单元的调整方法和等离子体处理装置
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