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申请/专利权人：呈和科技股份有限公司
摘要：本发明提供一种新型水滑石紫外屏蔽剂及其制备方法，所述水滑石紫外屏蔽剂由5‑甲酰水杨酸插层进入水滑石制得，制备步骤如下：S1：分别配制二价金属离子盐溶液和三价金属离子盐溶液；S2：配制5‑甲酰水杨酸溶液；S3：将二价金属离子盐溶液和三价金属离子盐溶液按预定比例混合得到混合盐溶液，将所述混合盐溶液在N2氛围下匀速滴入5‑甲酰水杨酸溶液中，加入碱液调节pH值，在预定温度下持续搅拌晶化，然后过滤洗涤至中性、干燥得到所述水滑石紫外屏蔽剂。采用共沉淀法有效地将水杨酸的衍生物5‑甲酰水杨酸一步插层到水滑石中得到新型水滑石紫外屏蔽剂，操作简单，5‑甲酰水杨酸环保无毒，整个生产过程简单且环保，产物对环境友好。
主权项：1.一种新型水滑石紫外屏蔽剂的制备方法，其特征在于，所述水滑石紫外屏蔽剂由5-甲酰水杨酸插成进入水滑石制得，制备步骤如下：S1：分别配制二价金属离子盐溶液和三价金属离子盐溶液；S2：配制5-甲酰水杨酸溶液；S3：将二价金属离子盐溶液和三价金属离子盐溶液按预定比例混合得到混合盐溶液，将所述混合盐溶液在N2氛围下匀速滴入5-甲酰水杨酸溶液中，加入碱溶液调节pH值，在预定温度下持续搅拌晶化，然后过滤洗涤至中性、干燥得到所述水滑石紫外屏蔽剂。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 呈和科技股份有限公司 一种新型水滑石紫外屏蔽剂及其制备方法和应用
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