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申请/专利权人:合肥开悦半导体科技有限公司
摘要:本发明公开了一种涂胶显影装置和方法,涉及涂胶显影机技术领域,包括工艺机构、热处理装置、缓存机构、工艺机械臂和热处理机械臂;所述工艺机构用于对晶圆实施涂胶显影工艺,工艺机构为现有技术中的涂胶工艺设备和显影工艺设备,所述热处理装置用于对晶圆实施热处理工艺,热处理装置为现有技术中的热板结构,所述缓存机构用于存放晶圆,所述缓存机构用于冷却晶圆;所述工艺机械臂在工艺机构和缓存机构之间传输晶圆,所述热处理机械臂在热处理装置和缓存机构之间传输晶圆,通过工艺机械臂和热处理机械臂的设置,工艺转运和热处理转运互不影响,避免出现晶圆温度不均,产生工艺质量不达标的问题。
主权项:1.一种涂胶显影装置,其特征在于,包括工艺机构3、热处理装置5、缓存机构6、工艺机械臂7和热处理机械臂8;所述工艺机构3用于对晶圆实施涂胶显影工艺,所述热处理装置5用于对晶圆实施热处理工艺,所述缓存机构6用于存放晶圆和冷却晶圆;所述工艺机械臂7在工艺机构3和缓存机构6之间传输晶圆,所述热处理机械臂8在热处理装置5和缓存机构6之间传输晶圆。
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百度查询: 合肥开悦半导体科技有限公司 一种涂胶显影装置和方法
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