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申请/专利权人：季华实验室

摘要：本申请提供了一种合成射流辅助离心雾化设备，涉及增材制造技术领域。通过在雾化室中设置合成射流激励器，由合成射流激励器利用雾化室中的气体生成合成射流后并使合成射流喷出至离心转盘边缘处以加强液膜的破碎作用，由于合成射流激励器是利用雾化室中的气体生成合成射流，因此，该合成射流的温度不会较低，再利用该合成射流喷向离心转盘边缘处，对液膜施加扰动，从而加强液膜的破碎作用，所以，本申请提供的合成射流辅助离心雾化设备既能增强离心转盘边缘处液膜的破碎作用，有效提升转盘离心雾化效果，又无需要另外设置气流源以及加热装置，有利于降低生产成本。

主权项：1.一种合成射流辅助离心雾化设备，其特征在于，包括：熔炼室（100）、雾化室（110）、导流嘴（120）、离心转盘（130）、驱动装置（140）和合成射流激励器（150）；所述熔炼室（100）包括熔炼坩埚（101）和中间包（102），所述熔炼坩埚（101）用于将金属母料熔炼成金属熔体，所述中间包（102）用于盛接所述金属熔体；所述雾化室（110）设置在所述熔炼室（100）的下方，所述导流嘴（120）设置在所述中间包（102）的下方且伸入所述雾化室（110），所述离心转盘（130）同轴设置在所述导流嘴（120）的下方，所述导流嘴（120）用于将所述中间包（102）中的所述金属熔体输送至所述离心转盘（130），所述离心转盘（130）与所述驱动装置（140）连接，所述驱动装置（140）用于驱动所述离心转盘（130）转动，所述离心转盘（130）用于驱使流至所述离心转盘（130）上的所述金属熔体做离心运动以形成液膜并使所述液膜在所述离心转盘（130）边缘处破碎雾化；所述合成射流激励器（150）设置在所述雾化室（110）中，所述合成射流激励器（150）利用所述雾化室（110）中的气体生成合成射流并使所述合成射流喷出至所述离心转盘（130）边缘处以加强所述液膜的破碎作用；所述合成射流激励器（150）包括激励信号发生器（151）、压电振动片（152）、腔体（153）和进出口（154），所述腔体（153）内设置有空腔（155），所述压电振动片（152）设置在所述腔体（153）中，所述进出口（154）设置在所述腔体（153）上且开口朝向所述离心转盘（130）边缘位置，所述进出口（154）用于连通所述空腔（155）和所述雾化室（110），所述激励信号发生器（151）与所述压电振动片（152）连接并用于控制所述压电振动片（152）振动，所述压电振动片（152）用于在振动时周期性地驱动所述空腔（155）内的空气从所述进出口（154）排出形成所述合成射流；所述进出口（154）远离所述空腔（155）的一侧设置有引导部（156），所述引导部（156）用于导引所述空腔（155）的气体排出；所述进出口（154）的宽度为0.5mm-3mm，所述空腔（155）的高度为所述进出口（154）的宽度的0.5倍-1.2倍，所述引导部（156）的高度为所述进出口（154）的宽度的0.5倍-1倍。

全文数据：

权利要求：

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