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申请/专利权人：湖北光安伦芯片有限公司
摘要：本实用新型属于半导体技术领域，具体涉及一种用于多片湿法刻蚀的装置，包括用于放置晶圆的承片底座以及用于固定及矫正晶圆位置的旋杆底座；所述旋杆底座转动安装于所述承片底座上，所述承片底座上设置有多个晶圆放置工位，且多个晶圆放置工位沿所述旋杆底座的周向等距间隔布置。本实用新型的装置在同一平面设置多个晶圆放置工位，通过旋杆底座对多个晶圆放置工位上的晶圆的位置进行矫正及固定，不仅可以同时进行多片晶圆的湿法刻蚀，刻蚀效率高，还能在一定程度上节约溶液使用量，而且同批次参与湿法刻蚀的多个晶圆在同一水平面上，腐蚀状态一致，刻蚀一致性和重复性更好。
主权项：1.一种用于多片湿法刻蚀的装置，其特征在于：包括用于放置晶圆的承片底座以及用于固定及矫正晶圆位置的旋杆底座；所述旋杆底座转动安装于所述承片底座上，所述承片底座上设置有多个晶圆放置工位，且多个晶圆放置工位沿所述旋杆底座的周向等距间隔布置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 湖北光安伦芯片有限公司 一种用于多片湿法刻蚀的装置
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