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申请/专利权人：信利(惠州)智能显示有限公司
摘要：本发明涉及一种提高靶材利用率的方法，所述方法包括提供带有PLC程序控制的磁控溅射装置，所述磁控溅射装置包括被成膜基板、与所述被成膜基板相对设置的靶材、设置在所述靶材远离所述被成膜基板一侧的磁铁、分别位于所述磁铁左右两端用于识别所述磁铁位置的一组第一感应器，所述第一感应器之间的距离为a，所述磁铁在所述第一感应器之间做左右复往运动，所述方法还包括沿着所述第一感应器方向上在所述第一感应器之间设置有第二感应器，所述第二感应器之间的距离b满足：0.88a≤ba，所述磁铁按照在所述第一感应器之间做左右复往运动、在所述第二感应器之间做左右复往运动的顺序依次循环。
主权项：1.一种提高靶材利用率的方法，所述方法包括提供带有PLC程序控制的磁控溅射装置，所述磁控溅射装置包括被成膜基板、与所述被成膜基板相对设置的靶材、设置在所述靶材远离所述被成膜基板一侧的磁铁、分别位于所述磁铁左右两侧用于识别所述磁铁位置的一组第一感应器，所述第一感应器之间的距离为a，所述磁铁在所述第一感应器之间做左右复往运动，其特征在于，所述方法还包括沿着所述第一感应器方向上在所述第一感应器之间设置有第二感应器，所述第二感应器之间的距离b满足：0.88a≤ba，所述磁铁按照在所述第一感应器之间做左右复往运动、在所述第二感应器之间做左右复往运动的顺序依次循环，所述0.88a的值不小于所述被成膜基板的宽度。
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权利要求：
百度查询： 信利(惠州)智能显示有限公司 一种提高靶材利用率的方法
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