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申请/专利权人：华翊博奥(北京)量子科技有限公司
摘要：本申请公开一种电光幅度调制的方法及装置，包括：将预设偏振的入射激光入射至电光晶体，获得第一出射激光；将获得的第一出射激光进行偏振状态调制后反射回电光晶体，获得第二出射激光；对第二出射激光进行偏振过滤，以实现幅度调制；其中，入射激光从电光晶体的第一次出射和反射回到电光晶体的时间等于施加在电光晶体上的射频场的半周期的奇数倍。本公开实施例利用两次通过一块电光晶体实现了幅度调制，消除了本征双折射效应的影响，简化了电光幅度调制的装置组成，降低了设备成本。
主权项：1.一种电光幅度调制的方法，其特征在于，包括：将预设偏振的入射激光入射至电光晶体，获得第一出射激光；将获得的第一出射激光进行偏振状态调制后反射回电光晶体，获得第二出射激光；对第二出射激光进行偏振过滤，以实现幅度调制；其中，所述入射激光从所述电光晶体的第一次出射和反射回到所述电光晶体的时间等于施加在所述电光晶体上的射频场的半周期的奇数倍。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华翊博奥(北京)量子科技有限公司 一种电光幅度调制的方法及装置
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