首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

一种Ni和Ge多层纳米环阵列结构的近红外吸波器 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:桂林电子科技大学

摘要:本发明公开一种Ni和Ge多层纳米环阵列结构的近红外吸波器,吸波器是由Ni和Ge多层纳米环阵列组成,这些纳米环周期性地排列在金衬底上,环与金属衬底之间有一层SiO2电介质。所提出的吸收器实现了对近红外光近乎完美的吸收,这归因于来自顶部纳米环的多种谐振模式的集成,包括电极性和磁极性。纳米环的组成、几何形状和排列显著影响该器件的吸收性能,具有较小的公差。通过不断优化结构,可以得到对300–2400nm波长的电磁波近乎完美吸收的吸波器,该吸波器在整个波段的平均吸收率超过95%。该吸波器浸没在水中部分,可以充当太阳能蒸发器,可能应用于太阳能产生、消毒和海水处理,从而生产淡水。未浸没在水中的部分,也可能充当太阳能发电装置。

主权项:1.一种Ni和Ge多层纳米环阵列结构的近红外吸波器,其特征在于:所述吸波器由吸波器单元构成,所述吸波器单元设置由5层结构构成,从下至上依次为平行于xoy平面的金属层6,二氧化硅衬底5,液态水4和金属纳米环1,2,3。其中吸波器单元的周期P,固定为200nm,金属层6的厚度h5,固定为200nm,二氧化硅衬底5的厚度为h4,固定为10nm,液态水4的厚度为h3,固定为290nm,金属纳米环1,2,3的相对高度分别为h1,h2和h3,固定分别为90nm,90nm和290nm,纳米环的内径分别为R1,R3和R5,固定分别为55nm,66nm和80nm,外径分别为R2,R4和R6,固定值分别为65nm,76nm和90nm。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 桂林电子科技大学 一种Ni和Ge多层纳米环阵列结构的近红外吸波器

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。