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申请/专利权人：深圳晶源信息技术有限公司
摘要：本发明涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种版图图形修正方法、计算机设备、存储介质及产品。所述版图图形修正方法，其特征在于，包括：获取版图上所有边的图形信息；基于图形信息找出待测边；提供修正表，修正表包括多个修正参数及与之对应的修正量；获取待测边的所有修正参数，并在修正表中找到对应的所有修正量；对待测边对应的所有修正量进行整合优化，得到待测边的最终修正量并基于最终修正量对待测边进行修正。解决了现有版图图形修正计算时间长的问题。
主权项：1.一种版图图形修正方法，其特征在于，包括：获取版图上所有边的图形信息；基于所述图形信息找出待测边；提供修正表，所述修正表包括多个修正参数及与之对应的修正量；获取待测边的所有修正参数，并在所述修正表中找到对应的所有修正量；对待测边对应的所有修正量进行整合优化，得到所述待测边的最终修正量并基于所述最终修正量对所述待测边进行修正。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳晶源信息技术有限公司 一种版图图形修正方法、计算机设备、存储介质及产品
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