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申请/专利权人：艾克塞利斯科技公司
摘要：离子源110具有限定电弧室容积140的电弧室116。储液器144耦合到电弧室，从而限定储液器容积146。储液器容纳源种类以限定储液器容积内的液体114。导管154将储液器容积流体地耦合到电弧室容积。可选地，该导管的第一和第二开口156，158通向相应的储液器和电弧室容积。可选地，热源152选择性地加热储液器以在预定温度下熔化源种类。液体控制装置160控制储液器容积内的液体的第一容积以限定向电弧室容积的液体的预定供应量。可选地，液体控制装置是加压气体源174，该加压气体源流体地耦合到储液器以向储液器供应气体并向电弧室提供预定量的液体。
主权项：1.一种用于离子注入系统的离子源，所述离子源包括：电弧室，其限定电弧室容积；储液器，其可操作地耦合到所述电弧室，并限定储液器容积，其中所述储液器容积被配置为在其中容纳液体；导管，其将所述储液器容积流体地耦合到所述电弧室容积，其中，所述导管具有第一开口和第二开口，其中所述第一开口可操作地耦合到所述储液器，并且其中所述第二开口从所述第一开口升高并且通向所述电弧室容积；以及液体控制装置，其可操作地耦合到所述储液器，其中所述液体控制装置被配置为控制限定于所述储液器容积内的液体的第一容积，并且其中所述储液器容积内的液体的第一容积进一步限定向所述电弧室容积的液体的预定供应量。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 艾克塞利斯科技公司 用于离子源的液压供给系统
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