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申请/专利权人：苏州泉铭克光电科技有限公司

摘要：本发明公开了一种基于数字光处理技术的实时显微成像补偿微纳加工系统，所述加工系统包括数字光处理光路系统和显微成像反馈补偿系统，其中：所述数字光处理光路系统包括紫外单波长光学结构、显微镜物镜、基底支架和具有氧气穿透膜的基底液体容器池，所述基底支架包括三维位移控制器和角度平台，所述紫外单波长光学结构包括DMD光机，所述DMD光机包括DMD芯片和紫外光光源，所述显微成像反馈补偿系统包括探测器、处理器和连接到处理器的计算机。本发明能够解决光源及光路系统引入的光斑均匀度差等问题，极大地提高打印结构层的均匀性，大幅度提高三维物体的良品率及样品打印质量。

主权项：1.一种基于数字光处理技术的实时显微成像补偿微纳加工系统，其特征在于所述加工系统包括数字光处理光路系统和显微成像反馈补偿系统，其中：所述数字光处理光路系统包括紫外单波长光学结构、显微镜物镜、基底支架和具有氧气穿透膜的基底液体容器池，其中：基底支架位于基底液体容器池下方用于支撑固定基底液体容器池；基底液体容器池用于盛放光敏聚合物，氧气穿透膜包裹在基底液体容器池的底面；紫外单波长光学结构用于提供一个单波长的紫外光以在光敏聚合物中引发单光子聚合过程；显微镜物镜用于将紫外光聚焦在光敏聚合物上；所述基底支架包括三维位移控制器和角度平台，三维移动控制台包括X轴位移控制器、Y轴位移控制器和Z轴位移控制器，在制备三维结构之前，Z轴位移控制器用于调整显微镜物镜的位置寻找光敏聚合物和氧气穿透膜的界面，在制备三维结构的过程中，Z轴位移控制器用于控制样品基底的高度，X轴位移控制器和Y轴位移控制器用于调整三维结构制备的位置；角度位移器用于校正样品基底的位置以及调整三维结构制备的结构位置；所述紫外单波长光学结构包括DMD光机，所述DMD光机包括DMD芯片和紫外光光源，用于生成单光子聚合层层制备的二维结构模型图；所述显微成像反馈补偿系统包括探测器、处理器和连接到处理器的计算机；所述紫外光光源产生一个波长为390纳米的紫外光，紫外光经过计算机处理后生成二维结构模型图，二维结构模型图输入到DMD芯片中，DMD芯片输出的二维结构光斑通过光学组件引导到显微镜物镜上，显微镜物镜将二维结构光斑聚焦到光敏聚合物中引发单光子聚合，探测器对当前打印层进行成像并与三维结构模型对比评价后将单光子聚合数据反馈至处理器，处理器对紫外单波长光学结构和三维位移控制器进行控制操作，计算机根据处理器接收到的单光子聚合数据执行计算机程序得到一系列图像图案以及分层信息。

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