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申请/专利权人:商先创国际股份有限公司
摘要:本发明涉及用于等离子体辅助的化学气相沉积的设备1、系统50和方法100。在此,处理室2被配置成用于接纳至少一个工件载体30。根据本发明,该设备1被配置为用于借助于至少一个能够被该处理室2接纳的工件载体30来加热该处理室2。
主权项:1.一种用于等离子体辅助的化学气相沉积的设备1,具有用于接纳至少一个工件载体30的处理室2,其特征在于,该设备1被配置为用于借助于至少一个能够被该处理室2接纳的工件载体30来加热该处理室2,所述处理室2具有至少四个接触插针7的电流接口5,所述至少四个接触插针7布置在所述处理室2的后壁6的区域中;所述至少四个接触插针7用于电接触该至少一个能够被接纳的工件载体30,对所述工件载体30的至少两个电路彼此独立地供应电流。
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权利要求:
百度查询: 商先创国际股份有限公司 用于等离子体辅助的化学气相沉积的设备、系统和方法
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