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申请/专利权人：ASMIP私人控股有限公司
摘要：提供了在衬底上沉积包含钼的层的方法和装置，做法是在反应室中向衬底供给包含二氯二氧化钼VI的前体及包含硼和氢的第一反应物以反应和形成钼层。包含硼和氢的第一反应物可为乙硼烷。
主权项：1.一种在反应室中在衬底上沉积包含钼的层的方法，所述方法包括：在所述衬底上沉积种子层，包括：通过在所述反应室中提供包含硼和氢的第一反应物来预加工所述衬底的表面；在所述反应室中向所述衬底供给包含二氯二氧化钼VIMoO2Cl2的前体；和，在所述反应室中向所述衬底供给第一反应物以让一部分所述前体与所述第一反应物反应形成钼层，其中所述第一反应物包含硼和氢且为乙硼烷B2H6；以及在所述种子层上沉积本体层，包括：在所述反应室中向所述衬底供给所述包含二氯二氧化钼VIMoO2Cl2的前体；和，在所述反应室中向所述衬底供给包含氢且不包含硼的第二反应物，其中一部分所述前体与所述第二反应物反应形成所述本体层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASMIP私人控股有限公司 层形成方法和装置
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