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申请/专利权人：北京理工大学
摘要：本发明属于高熵涂层技术领域，具体涉及一种含硅高熵硼化物涂层及其制备方法和应用。本发明提供的含硅高熵硼化物涂层体系中，金属氧化物构成骨架，Nb2O5和Ta2O5作为主要液相填充骨架，构成致密氧化层；进一步的通过添加SiC，能够有效提高高熵硼化物的涂层性能以及抗氧化烧蚀性能，主要由于添加SiC后产生SiO2，能够构成致密的氧化层，同时与金属氧化物协同抗氧化，加入SiC后形成了SiO2、硼硅酸盐和o‑ZrSiO4，三者均能作为液相填充孔洞，其中SiO2还具有独特的钉扎作用。因此加入SiC后形成的氧化层致密性更好，从而提高材料的抗氧化烧蚀性能。
主权项：1.一种含硅高熵硼化物涂层，其特征在于，包括涂层基体和掺杂在所述涂层基体中的碳化硅；所述涂层基体的化学组成为Hf0.2Zr0.2Nb0.2Ta0.2Sc0.2B2。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京理工大学 一种含硅高熵硼化物涂层及其制备方法和应用
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