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申请/专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
摘要：本发明涉及一种硅片校正机构，包括：底座；两个推片件，均可滑动地设在所述底座上，两个所述推片件相对设置；运动件，可滑动地设在所述底座上，所述运动件上开设有两个运动滑轨，两个所述推片件分别滑动与两个所述运动滑轨滑动连接，所述运动件在第一方向上运动时，带动两个所述推片件朝相互靠近或相互远离；两个所述推片件用于在相互靠近时对硅片夹持校正；驱动装置，连接所述运动件，用于带动所述运动件在所述第一方向上运动。现有技术中需要两个气缸连接两个推片件，本实施方式中通过运动件的设置，使得单个气缸可以带动两个推片件相互靠近或相互远离，节省了硅片校正机构的成本。
主权项：1.一种硅片校正机构，其特征在于，包括：底座；两个推片件，均可滑动地设在所述底座上，两个所述推片件相对设置；运动件，可滑动地设在所述底座上，所述运动件上开设有两个运动滑轨，两个所述推片件分别滑动与两个所述运动滑轨滑动连接，所述运动件在第一方向上运动时，带动两个所述推片件在第二方向上相互靠近或相互远离；两个所述推片件用于在相互靠近时对硅片夹持校正；所述推片件包括：移动部，滑动设在所述底座上，并与所述运动件的一所述运动滑轨滑动连接；推片部，设在所述移动部上背离所述运动件的一侧，并高于所述移动部，所述推片部用于校正硅片；驱动装置，连接所述运动件，用于带动所述运动件在所述第一方向上运动；运动滑轨，两个端部距离运动件的中心较远，运动滑轨的中部位置距离运动件的中心较近，即推片件从运动滑轨的端部运动到运动滑轨的中部时，两个推片件相互靠近；所述运动滑轨内形成所述推片件的运动轨迹，所述运动轨迹在沿在所述第一方向和所述第二方向上延伸，所述推片件具有：初始位置和校正位置，所述推片件沿所述运动轨迹运动时在所述初始位置和所述校正位置中切换。
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