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申请/专利权人：上海原力芯辰科技有限公司
摘要：本发明公开了一种卷对卷常压沉积设备及卷对卷常压沉积系统，涉及薄膜沉积技术领域。该卷对卷常压沉积设备包括放卷机构、反应装置及收卷机构，反应装置具有料带通道及多个依次连接的功能室，料带通道依次穿过多个功能室；多个功能室中包括ALD沉积室、两个正压隔离室、两个负压回流室及两个正压干燥室，两个正压隔离室分别处于料带通道的两端，两个负压回流室与两个正压隔离室分别连接，两个正压干燥室与两个负压回流室分别连接，ALD沉积室处于两个正压干燥室之间。本发明提供的卷对卷常压沉积设备能够在常压环境下对柔性基底进行ALD沉积，从而显著提升柔性基底的膜层生长效率与生长品质。
主权项：1.一种卷对卷常压沉积设备，其特征在于，包括放卷机构110、反应装置120及收卷机构130，所述反应装置120具有料带通道121及多个功能室，多个所述功能室依次连接，所述料带通道121依次穿过多个所述功能室；所述放卷机构110用于放卷柔性基底，所述收卷机构130用于对经过放卷并穿过所述料带通道121后的所述柔性基底进行收卷；所述多个功能室中包括ALD沉积室122、两个正压隔离室123、两个负压回流室124及两个正压干燥室125，两个所述正压隔离室123分别处于所述料带通道121的两端，两个所述负压回流室124与两个所述正压隔离室123分别连接，两个所述正压干燥室125与两个所述负压回流室124分别连接，所述ALD沉积室122处于两个所述正压干燥室125之间；所述正压隔离室123用于持续引入隔离气体，所述正压干燥室125用于持续引入干燥气体，所述负压回流室124用于抽吸所述隔离气体与所述干燥气体并排出至外界。
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权利要求：
百度查询： 上海原力芯辰科技有限公司 一种卷对卷常压沉积设备及卷对卷常压沉积系统
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