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申请/专利权人：武汉烽火锐拓科技有限公司;烽火通信科技股份有限公司
摘要：本申请涉及一种OVD沉积工艺的生产系统及OVD沉积工艺，光棒夹持装置组设于反应腔室内，并用于对芯棒进行夹持、旋转以及驱使芯棒在水平方向上做往复直线运动；多喷灯沉积设备组设于反应腔室内，且其沉积区域至少部分覆盖于芯棒；喷灯补料设备可移动地组设于反应腔室内，且其沉积区域至少部分覆盖于芯棒；测径装置可移动地组设于反应腔室内，并用于检测芯棒的外径；控制装置与光棒夹持装置、多喷灯沉积设备、喷灯补料设备和测径装置相连接，并用于控制光棒夹持装置、多喷灯沉积设备工作，以及根据测量的外径与设定外径分布标准曲线，控制喷灯补料设备工作。本申请可以解决相关技术中多喷灯的OVD工艺存在的光棒均匀性差问题。
主权项：1.一种OVD沉积工艺，其特征在于，其包括如下步骤：驱使芯棒4旋转，并驱使芯棒4在水平方向上做往复直线运动；按照设定的流量曲线，控制多喷灯沉积设备2，对所述芯棒4进行沉积；自所述芯棒4的一端至另一端，检测所述芯棒4的外径；将检测的外径与设定外径分布标准曲线进行比对，获取喷灯补料设备3的补偿流量和补偿移动速度；按照所述补偿移动速度，驱使喷灯补料设备3移动，并按照所述补偿流量，控制所述喷灯补料设备3，对所述芯棒4进行沉积补料；所述OVD沉积工艺还包括如下晃动检测步骤：将测径装置移动至待测区域；驱使测径装置与光棒夹持装置1同步移动，并持续设定时间；获取所述设定时间内，所测量的芯棒4的外径最大值和最小值；根据所述最大值和最小值，计算得到所述待测区域的沉积晃动程度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉烽火锐拓科技有限公司 烽火通信科技股份有限公司 一种OVD沉积工艺的生产系统及OVD沉积工艺
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