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曲线掩模版的OPC修正方法、装置、介质、程序产品及终端 

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申请/专利权人:华芯程(杭州)科技有限公司

摘要:本申请提供曲线掩模版的OPC修正方法、装置、介质、程序产品及终端,通过从原始的曲线掩膜版图中提取线段信息,并基于预设的判定条件对提取到的线段进行多轮迭代优化,最终生成经过OPC修正的曲线掩膜版。本申请有效简化了版图复杂度,降低了线段和顶点的数量,从而提升了OPC修正的效率,并显著提高了版图处理效率。

主权项:1.一种曲线掩模版的OPC修正方法,其特征在于,所述方法包括:获取原始曲线掩膜版图;从所述原始曲线掩膜版图中提取所有线段及所述线段两端的端点坐标;基于所述线段和所述线段两端的端点坐标,对相邻的所述线段执行多轮线段合并操作,以生成第一优化版图;基于预设优化函数,对所述第一优化版图进行多轮迭代优化,以生成经过OPC修正的曲线掩膜版。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 华芯程(杭州)科技有限公司 曲线掩模版的OPC修正方法、装置、介质、程序产品及终端

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