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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本公开提供一种能够对基片供给具有稳定的臭氧浓度的臭氧水的基片处理装置、基片处理方法和计算机可读存储介质。基片处理装置包括：构成为能够供给臭氧气体的臭氧气体供给部；构成为能够供给呈现出规定的氢离子浓度的调整液的调整液供给部；构成为能够使臭氧气体溶解于调整液而生成臭氧水的溶解部；构成为能够用臭氧水来对基片进行清洗处理的至少一个处理腔室；和构成为能够通过送液线路将臭氧水从溶解部输送到至少一个处理腔室的送液部。
主权项：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：构成为能够供给臭氧气体的臭氧气体供给部；构成为能够供给呈现出规定的氢离子浓度的调整液的调整液供给部；构成为能够使所述臭氧气体溶解于所述调整液而生成臭氧水的溶解部；构成为能够用所述臭氧水来对基片进行清洗处理的至少一个处理腔室；构成为能够通过送液线路将所述臭氧水从所述溶解部输送到所述至少一个处理腔室的送液部；和控制部，所述至少一个处理腔室包含：对所述基片进行加热的加热源；和构成为能够用所述臭氧水来对基片进行清洗处理的多个处理腔室，所述送液线路以从所述溶解部分别向所述多个处理腔室分支的方式延伸，所述送液部构成为能够通过所述送液线路将所述臭氧水从所述溶解部分别输送到所述多个处理腔室，所述控制部构成为能够进一步执行控制所述送液部的处理，以使得在向所述多个处理腔室中的一个处理腔室输送所述臭氧水的情况下，不向所述多个处理腔室中的其余处理腔室输送所述臭氧水。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理装置、基片处理方法和计算机可读存储介质
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