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申请/专利权人：苏州耀德半导体有限公司

摘要：本发明公开了一种便于分流的CVD设备用沉积室，涉及CVD沉积室技术领域，包括底板和固定安装在底板底部的支撑柱，所述底板的顶部固定连接有沉积筒，所述沉积筒的顶部中间安装有排气管，还包括：进气管，对称安装在沉积筒的顶部两侧，所述沉积筒的正面一侧安装有密封门；均流组件，设置在沉积筒的内部中间，所述均流组件包括驱动电机，所述驱动电机固定安装在底板的底部中间；所述固定环的内侧设置有辅助组件，所述辅助组件包括固定内块和套圈，解决了炭源气体与工件的接触不充分，使得炭源气体未对工件的整体进行增密就直接排出，可能存在工件局部位置增密效果差，甚至未增密完全的情况，降低了工件增密的均匀性和整体性的问题。

主权项：1.一种便于分流的CVD设备用沉积室，包括底板1和固定安装在底板1底部的支撑柱2，所述底板1的顶部固定连接有沉积筒3，所述沉积筒3的顶部中间安装有排气管4；其特征在于，还包括：进气管5，对称安装在沉积筒3的顶部两侧，所述沉积筒3的正面一侧安装有密封门6；均流组件7，设置在沉积筒3的内部中间，所述沉积筒3的内顶面对称固定有安装杆9，所述安装杆9的底端固定连接有放置板10，所述沉积筒3的内底面对称连接有引气管11，所述引气管11的底端穿过底板1与外部相连通；所述均流组件7包括驱动电机71，所述驱动电机71固定安装在底板1的底部中间，所述驱动电机71的输出端穿过底板1和沉积筒3固定连接有转轴72，所述转轴72的中部外侧固定连接有打散杆73，所述沉积筒3的内侧下部固定连接有分流板74，所述转轴72的顶端固定连接有转动盘75，所述沉积筒3的内侧壁上方固定连接有固定环76；所述固定环76的内侧连接有圆盘齿轮77，所述圆盘齿轮77的底部固定连接有连接杆78，所述连接杆78的底端与转动盘75相连接，所述固定环76的顶部对称固定有固定板79，所述固定板79靠近安装杆9的一侧转动连接有连接轴710，所述连接轴710的中部外侧固定连接有从齿轮711，所述连接轴710远离固定板79的一端固定连接有转动杆一712；所述转动杆一712远离连接轴710的一端转动连接有转动杆二713，所述转动杆二713远离转动杆一712的一端安装有连接筒714，所述转动杆二713与连接筒714转动连接，所述进气管5的底端穿过沉积筒3与连接筒714相连接，所述连接筒714的内侧固定安装有716；所述固定环76的内侧设置有辅助组件8，所述辅助组件8包括固定内块81和套圈82，所述套圈82的内侧开设有卡槽83。

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