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申请/专利权人：日东电工株式会社
摘要：一种等离子体CVD装置1，其具备一对成膜辊2A、2B、一对磁场产生部件3A、3B、一对位置调整部件4A、4B、以及气体供给部5。一对成膜辊2A、2B相互分离地对置配置。一对磁场产生部件3A、3B配置于一对成膜辊2A、2B各自的内部。一对磁场产生部件3A、3B使一对成膜辊2A、2B之间产生磁场。一对位置调整部件4A、4B分别调整一对磁场产生部件3A、3B的位置。气体供给部5向一对成膜辊2A、2B之间供给成膜气体。一对位置调整部件4A、4B构成为调整一对磁场产生部件3A、3B的位置，以使一磁场产生部件3A、3B和气体供给部之间的距离、与另一磁场产生部件3A、3B和气体供给部之间的距离相同。
主权项：1.一种等离子体CVD装置，其具备：一对成膜辊，其相互分离地对置配置；一对磁场产生部件，其配置于一对所述成膜辊各自的内部，使一对所述成膜辊之间产生磁场；一对位置调整部件，其分别调整一对所述磁场产生部件的位置；气体供给部，其向一对所述成膜辊之间供给成膜气体，一对所述位置调整部件构成为调整一对所述磁场产生部件的位置，以使一所述磁场产生部件的中心和所述气体供给部之间的距离、与另一所述磁场产生部件的中心和所述气体供给部之间的距离相同。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日东电工株式会社 等离子体CVD装置及膜的制造方法
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