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申请/专利权人：浙江无限钻科技发展有限公司
摘要：本实用新型提供一种CVD设备沉积台，涉及人造钻石用CVD沉积装置技术领域，包括：沉积支座，所述沉积支座上方固定连接有第一固定环台，所述第一固定环台内部固定连接有平衡内架，所述平衡内架上固定连接有环形结构的第二固定环台，本结构的沉积台使钻石沉积过程中保持合理的密度，在保证产量的同时还避免了相邻钻石之间的联结，实用性好，解决了现有CVD沉积技术用于制造人造钻石时，在沉积台上摆放钻石薄片，通过气相沉淀会使钻石薄片体积变大，若沉积台上的钻石薄片间距过小，相邻的钻石薄片在气相沉淀过程中膨胀会接触，形成联结，影响钻石沉积成型的质量，而钻石薄片在沉积台上的摆放密度过小，会降低人造钻石的产量的问题。
主权项：1.一种CVD设备沉积台，包括：沉积支座1，其特征在于，所述沉积支座1上方固定连接有第一固定环台2，所述第一固定环台2内部固定连接有平衡内架3，所述平衡内架3上固定连接有环形结构的第二固定环台4，所述第一固定环台2与第二固定环台4高度平齐，升降内台5，所述升降内台5下方设有支架，升降内台5的支架固定连接有升降外台6，所述升降内台5与升降外台6高度平齐，所述升降内台5与升降外台6的支架与平衡内架3形成滑动连接，所述沉积支座1内部固定连接有两处升降锁套7。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江无限钻科技发展有限公司 一种CVD设备沉积台
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