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申请/专利权人：北京航空航天大学宁波创新研究院;浙江丰州科技股份有限公司
摘要：本发明涉及一种高强韧氮化物薄膜及其制备方法和应用，该氮化物薄膜的成分表达式为：TiaAlbNbcTadXeN，X为Hf、Zr、V、Cr、Mo中的一种或两种；该氮化物薄膜的纳米硬度达33.07±2.12GPa，H3E2值达0.325±0.014；其（200）面的（2×11×1）超胞与a‑SiO2的（0‑58）晶面的（√3R30×8×5）超胞的错配度δ≤3%。通过合金靶材的N2反应磁控溅射将上述氮化物薄膜沉积在SiO2片表面制成谐振式传感器的芯片，再将该谐振式传感器安装到夹持装置上，利用该谐振式传感器来检测该夹持装置对工件的夹紧力，测试表明该装置的力频线性度达到99%以上。
主权项：1.一种高强韧氮化物薄膜，其特征在于，该薄膜的成分表达式为：TiaAlbNbcTadXeN，其中a=10-30、b=10-30、c=10-30、d=10-30、e=0-20，|a+b-c+d|≤15，且a+b+c+d+e=100，X为V、Hf、Zr、Cr、Mo中的一种或两种；该薄膜纳米硬度≥20GPa，韧性H3E2值≥0.15。
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权利要求：
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