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申请/专利权人：科思创德国股份有限公司

摘要：本发明涉及一种运行用于连续制备异氰酸酯的装置的方法，所述连续制备使用第一绝热运行反应室和第二等温运行反应室，在液相中，在溶剂L的存在下，在保持基于伯胺的氨基计光气化学计量过量的情况下，通过伯胺A与光气P的反应进行。所述方法的特点是使用组合措施，特别是保持足够高的启动压力和足够高的启动温度，以使所述装置从生产中断状态又进入到目标状态，常规运行。

主权项：1.运行用于连续制备异氰酸酯的装置的方法，所述连续制备在液相中，在溶剂L的存在下，在保持基于伯胺的氨基计光气化学计量过量的情况下，通过伯胺A与光气P的反应进行，其中所述装置具有以下装置部分：I第一混合设备，其配置用于将伯胺A和溶剂L混合成胺溶液AL，II第二混合设备，其配置用于将光气P和溶剂L混合成光气溶液PL，III第三混合设备，其配置用于将所述胺溶液和所述光气溶液混合成反应混合物，IV第一反应室，其配置用于反应混合物的绝热反应，和在所述反应室下游的减压室，其配置用于形成第一液相和第一气相，V减压设备，其用于将第一液相减压，形成第二液相和第二气相，VI第二反应室，其配置用于第二液相的等温反应，形成第三液相和第三气相，VII用于从第三液相中获得异氰酸酯的后处理单元；其中所述方法在目标状态下包括胺溶液以胺溶液中胺的目标浓度cA目标和胺溶液的目标流量与光气溶液以光气溶液中光气的目标浓度cP目标和光气溶液的目标流量连续反应，胺溶液的目标流量由胺的目标流量和溶剂的第一目标流量得出，光气溶液的目标流量由光气的目标流量和溶剂的第二目标流量得出，并且其中从没有向第三混合设备供应胺溶液的状态出发，进行以下步骤以达到目标状态：i连续供应a来自第二混合设备的光气溶液，温度为100℃至125℃，以目标浓度cP目标和目标流量和b来自第一混合设备的溶剂，温度为70℃至100℃，以第一目标流量进入第三混合设备中并从那里通过第一反应室、减压室、减压设备和第二反应室进入后处理单元中，ii以小于胺的目标流量的胺的启动流量启动向第一混合设备中连续供应胺，此外在步骤ib中建立的溶剂流流过该第一混合设备并因此形成胺溶液，使得离开第一混合设备的胺溶液的温度出现在85℃至105℃，并且获得的离开第三混合设备的反应混合物的温度为130℃至145℃，其中选择启动连续供应胺到第一混合设备中的时间点，使得当胺溶液和光气溶液在第三混合设备中彼此首次接触时，装置部分IV的减压室中的压力为16bar至25bar，iii将胺的流量逐阶段地或连续地从提高到并且与此同时将从第二混合设备中取出的光气溶液的温度降低到0℃至10℃的值，使得离开第三混合设备的反应混合物的温度保持在130℃至145℃并且装置部分IV的减压室中的压力为20bar至30bar，iv达到胺的目标流量后，即将从第一混合设备中取出的胺溶液的温度降低到50℃至80℃的值，使得在目标状态下，离开第三混合设备的反应混合物的温度出现在125℃至135℃，并且装置部分IV的减压室中的压力保持在20bar至30bar。

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