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申请/专利权人：吉帕科技(深圳)有限公司
摘要：本发明公开了一种基于高压用SiC压砧小台面光洁度抛光提升的方法，该方法包括以下步骤：准备抛光材料，所述抛光材料包括钻石粉、铝粉和橄榄油；将钻石粉与橄榄油混合均匀，搅拌成粘稠状，并静置一段时间；在混合物中加入铝粉，继续搅拌均匀，并静置一段时间；在铸铁盘上均匀涂抹上述混合后的抛光膏，然后使用推盘车石臂将抛光膏均匀分布在铸铁盘表面，使用所述抛光膏对SiC压砧小台面进行抛光处理，以提升台面的光洁度。本发明通过对抛光粉的成分及比例进行优化，有效提高了高压用SiC压砧小台面的光洁度，解决了现有技术中抛光过程中容易产生黑色条纹和划痕的问题。
主权项：1.一种基于高压用SiC压砧小台面光洁度抛光提升的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：步骤一、准备抛光材料，所述抛光材料包括钻石粉、铝粉和橄榄油；步骤二、将钻石粉与橄榄油混合均匀，搅拌成粘稠状，并静置一段时间；步骤三、在混合物中加入铝粉，继续搅拌均匀，并静置一段时间；步骤四、在铸铁盘上均匀涂抹上述混合后的抛光膏，然后使用推盘车石臂将抛光膏均匀分布在铸铁盘表面；步骤五、使用所述抛光膏对SiC压砧小台面进行抛光处理，以提升台面的光洁度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 吉帕科技(深圳)有限公司 基于高压用SiC压砧小台面光洁度抛光提升的方法
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