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申请/专利权人：上海图双精密装备有限公司

摘要：本发明公开了光刻机运动台反力抵消装置，包括底座，所述底座的上表面固定连接有光刻机主体，所述光刻机主体的正面设置有控制主机，所述光刻机主体的正面通过合页活动连接有开合门，所述开合门的正面设置有观察窗，所述光刻机主体的内底壁固定连接有减震器，所述减震器的表面设置有运行平台，所述运行平台的上表面设置有硅片台，所述硅片台的上表面设置有硅片。该光刻机运动台反力抵消装置，通过设置减震器，便于硅片台在运行平台上运行时产生的作用力能够通过减震器进行减震，通过设置压力弹簧和减力凸起，便于运行平台在运作时产生的作用力能够通过减力凸起和压力弹簧进行抵消，从而达到有效抵消运动台运作时产生反力的效果。

主权项：1.光刻机运动台反力抵消装置，包括底座1，其特征在于：所述底座1的上表面固定连接有光刻机主体2，所述光刻机主体2的正面设置有控制主机3，所述光刻机主体2的正面通过合页活动连接有开合门4，所述开合门4的正面设置有观察窗5，所述光刻机主体2的内底壁固定连接有减震器6，所述减震器6的表面设置有运行平台7，所述运行平台7的上表面设置有硅片台8，所述硅片台8的上表面设置有硅片9，所述光刻机主体2的内侧壁固定连接有固定条10，所述固定条10的内部设置有压力弹簧11；所述压力弹簧11远离固定条10的一端固定连接有减力凸起12，所述光刻机主体2的内部设置有照明光学模组13，所述照明光学模组13的一端固定连接有光罩模组14，所述光刻机主体2的内部位于光罩模组14的下方设置有掩模台15，所述掩模台15的上表面设置有掩模16，所述光刻机主体2的内部位于掩模台15的下方设置有投影聚光镜17，所述光刻机主体2的内壁固定连接有固定板18，所述固定板18的上表面固定连接有散热风扇19，所述光刻机主体2的侧面开设有散热孔20，所述散热孔20的内壁设置有防尘过滤网21；所述减震器6的数量为若干个，若干个所述减震器6均匀设置在光刻机主体2的内底壁，所述光刻机主体2的内底壁开设有与减震器6相适配的固定槽；所述运行平台7为圆晶平台模组，所述运行平台7的内部设置有直线电动机，所述硅片台8通过线路与直线电动机连接，所述硅片台8的内部设置用于硅片台8在运行平台7表面运行的平面电动机，所述硅片台8的上表面设置有硅片夹盘；所述固定条10的数量为两个，两个所述固定条10分别固定连接在光刻机主体2的内壁两侧，所述固定条10的下表面开设有与压力弹簧11相适配的凹槽，所述压力弹簧11的数量为多个，多个所述压力弹簧11通过凹槽分别设置在两个固定条10的内部；所述减力凸起12的数量为多个，多个所述减力凸起12分别与多个压力弹簧11固定连接，所述照明光学模组13的内部设置有紫外光生成器，所述照明光学模组13的内部设置有用于紫外光的反射镜，所述光罩模组14分为光罩传送模组和光罩平台模组，所述光罩模组14的内部设置有传送光罩的光罩盒；所述掩模台15的内部分别设置有与运行平台7内部相同的直线电动机和硅片台8内部相同的平面电动机，所述掩模16的上表面设置有夹盘，所述投影聚光镜17位于硅片台8和掩模台15之间。

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