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申请/专利权人：珠海芯业测控有限公司
摘要：本发明涉及集成电路测试技术领域，公开了一种晶圆Map图的绘制方法，本发明包括步骤：获取晶圆的测试数据；根据测试数据，采用GDI技术绘制所述晶圆的第一WaferMap图；对第一WaferMap图进行图形变换处理，获得第二WaferMap图，并在交互界面输出第二WaferMap图。本发明通过实时获取晶圆的测试数据或通过离线文件获取离线的测试数据，可以灵活地获取晶圆的测试数据；并采用GDI技术对晶圆的测试数据进行数据处理，还通过图形变换处理、参数设置、图形错误时重绘，最后高效精准地输出定制设置的、正确的WaferMap图。
主权项：1.一种晶圆Map图的绘制方法，其特征在于，包括步骤：获取晶圆的测试数据；根据所述测试数据，采用GDI技术绘制所述晶圆的第一WaferMap图；对所述第一WaferMap图进行图形变换处理，获得第二WaferMap图，并在交互界面输出所述第二WaferMap图。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 珠海芯业测控有限公司 晶圆Map图的绘制方法及绘制系统
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