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申请/专利权人：SK恩普士有限公司
摘要：本发明公开了一种制造空白掩模的方法，该方法包括：在透光基板上形成遮光膜、以形成光学基板；在所述遮光膜上形成光刻胶层；以及从所述透光基板的侧表面去除在所述光刻胶层的形成中产生的液滴，其中，在所述透光基板的侧表面上的、来源于液滴的液滴型吸附的数量小于3个cm2。
主权项：1.一种制造空白掩模的方法，所述方法包括：在透光基板上形成遮光膜、以形成光学基板；在所述遮光膜上形成光刻胶层；以及从所述透光基板的侧表面去除在所述光刻胶层的形成中产生的液滴；其中，在所述透光基板的侧表面上的、来源于所述液滴的液滴型吸附的数量小于3个cm2。
全文数据：
权利要求：
百度查询： SK恩普士有限公司 空白掩模及其制造方法
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