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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：本公开内容一般提供在电子装置制造处理期间向处理腔室的处理空间提供至少为亚稳态的自由基分子物质和或自由基原子物质的方法及其相关设备。在一个具体实施方式中，设备是设置在远程等离子体源和处理腔室之间的气体注入组件。气体注入组件包括：主体；设置在主体中的介电衬垫，介电衬垫限定了气体混合空间；将气体注入组件耦接至处理腔室的第一凸缘；以及将气体注入组件耦接至远程等离子体源的第二凸缘。气体注入组件还包括穿过主体和衬垫形成的一个或多个气体注入口。
主权项：1.一种基板处理系统，包含：处理腔室；远程等离子体源，所述远程等离子体源由等离子体导管耦接到所述处理腔室的处理空间，所述等离子体导管具有椭圆形；混合板，所述混合板设置在所述处理腔室与所述远程等离子体源之间，所述混合板包括其中的开口，所述等离子体导管穿过所述开口延伸，所述混合板包括：第一通道，所述第一通道形成在所述混合板中并且流体耦接到所述等离子体导管，所述第一通道包括沿所述第一通道的流体流动路径延伸的主轴，以及通向所述等离子体导管的第一出口；和第二通道，所述第二通道流体耦接到所述等离子体导管，所述第二通道相对于所述等离子体管道的横截面的中心定位在所述第一通道的内侧，所述第一通道包括通向所述等离子体导管的第二出口，和主轴，所述主轴沿所述第二通道的流体流动路径延伸，所述第二通道的主轴平行于所述第一通道的主轴，并且所述第二通道的主轴和所述第一通道的主轴设置在公共平面中。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 用于供应改良的气流至处理腔室的处理空间的方法和设备
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