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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供一种加热处理装置和加热处理方法。对形成于基板的涂布膜进行加热处理的加热处理装置具有载置部、加热部、环状体、盖体、中央排气部以及控制部，盖体具有外周排气部，外周排气部设置于环状体与盖体的接近部分的外侧，能够取入盖体的外方的氛围气体，其中，该控制部进行控制以进行以下工序：第一加热处理工序，在形成加热处理空间并且在加热处理空间内存在基板且在接近部分的环状体与盖体之间设置有间隙的状态下，一边通过外周排气部进行排气，一边进行基板的加热；以及第二加热处理工序，使中央排气部工作来对加热处理空间内进行排气，并且进行基板的加热。
主权项：1.一种加热处理装置，对形成于基板的涂布膜进行加热处理，所述加热处理装置具有：载置部，其载置基板；加热部，其用于将载置于所述载置部的基板进行加热；环状体，其以包围所述载置部的外周的方式设置；盖体，其覆盖所述载置部，并且通过所述盖体的下表面与所述环状体接近来形成加热处理空间；中央排气部，其配置于所述盖体的中央部，用于对所述加热处理空间内进行排气；以及控制部，其对载置于所述载置部的基板的加热处理进行控制，所述盖体具有外周排气部，所述外周排气部设置于所述环状体与所述盖体的接近部分的外侧，能够取入所述盖体的外方的氛围气体，其中，所述控制部进行控制以进行以下工序：第一加热处理工序，在形成所述加热处理空间并且在所述加热处理空间内存在所述基板且在所述接近部分的所述环状体与所述盖体之间设置有间隙的状态下，一边通过所述外周排气部进行排气，一边进行所述基板的加热；以及第二加热处理工序，使所述中央排气部工作来对所述加热处理空间内进行排气，并且进行所述基板的加热。
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权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 加热处理装置和加热处理方法
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