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物理性能更优的AR膜及其制备工艺 

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申请/专利权人:浙江日久新材料科技有限公司

摘要:本发明公开了物理性能更优的AR膜及其制备工艺,物理性能更优的AR膜,包括依次层叠设置的基材层、上涂布层、打底层、耐用层、第一氧化铌层、二氧化硅层、第二氧化铌层、硅铝混合层;耐用层为氧化铝层或氧化钇层,耐用层的厚度为1‑20nm。制备工艺包括如下步骤:在基材层的双面分别设置上涂布层和下涂布层,在下涂布层上设置高温保护膜;在上涂布层上依次镀设打底层、耐用层、第一氧化铌层、二氧化硅层、第二氧化铌层和硅铝混合层;在硅铝混合层上涂布AF层,在AF层上设置上保护膜。本发明中得AR膜具备较优的硬度、耐热和耐磨性,表现出优良的物理性能。

主权项:1.物理性能更优的AR膜,其特征在于,包括依次层叠设置的基材层、上涂布层、打底层、耐用层、第一氧化铌层、二氧化硅层、第二氧化铌层、硅铝混合层;耐用层为氧化铝层或氧化钇层,耐用层的厚度为1-20nm。

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权利要求:

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