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申请/专利权人：镭亚股份有限公司;镭亚电子(苏州)有限公司
摘要：本实用新型提供了一种纳米压印设备，包括：基板承载台，被配置为承载将被纳米压印的基板，基板的表面上涂覆有光刻胶；纳米压印组件，被配置为对涂覆有光刻胶的基板进行纳米压印；以及流速控制组件，被配置为在纳米压印的过程中，当光刻胶流动到基板承载台的边缘附近时降低光刻胶的流速。
主权项：1.一种纳米压印设备，包括：基板承载台，被配置为承载将被纳米压印的基板，所述基板的表面上涂覆有光刻胶；纳米压印组件，被配置为对涂覆有光刻胶的所述基板进行纳米压印；以及流速控制组件，被配置为在所述纳米压印的过程中，当光刻胶流动到所述基板承载台的边缘附近时降低所述光刻胶的流速。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 镭亚股份有限公司 镭亚电子(苏州)有限公司 纳米压印设备
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