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用于针对DEMURA校正的自适应二次采样的方法和装置 

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申请/专利权人:高通股份有限公司

摘要:本公开内容涉及用于显示处理的方法和设备包括装置,例如DPU。装置可以接收针对显示面板的多个面板测量,多个面板测量中的每个面板测量与显示面板中的多个子像素相关联。装置可以在接收到多个面板测量时,确定用于与多个面板测量中的每个面板测量相关联的多个子像素中的一个或多个子像素的至少一个偏移。装置还可以在确定用于一个或多个子像素的至少一个偏移时,存储用于与多个面板测量中的每个面板测量相关联的一个或多个子像素的至少一个偏移。

主权项:1.一种显示处理的方法,包括:接收针对显示面板的多个面板测量,所述多个面板测量中的每个面板测量与所述显示面板中的多个子像素相关联;在接收到所述多个面板测量时,确定用于与所述多个面板测量中的每个面板测量相关联的所述多个子像素中的一个或多个子像素的至少一个偏移;以及在确定用于所述一个或多个子像素的所述至少一个偏移时,存储用于与所述多个面板测量中的每个面板测量相关联的所述一个或多个子像素的所述至少一个偏移,其中,所述至少一个偏移是由SB来表示的,其中,所述至少一个偏移是由以下等式来确定的:其中,A表示可用偏移集合,Β表示所述一个或多个子像素的子块内的样本集合,N表示所述一个或多个子像素的所述子块内的样本数量,T表示用于所述一个或多个子像素的目标亮度,并且eval表示用于估计具有偏移α的样本β的亮度的函数。

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权利要求:

百度查询: 高通股份有限公司 用于针对DEMURA校正的自适应二次采样的方法和装置

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