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按摩足浴盆 

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申请/专利权人:湖北蕲阳本艾科技有限公司

摘要:本实用新型涉及足浴设备技术领域,尤其是涉及一种按摩足浴盆;包括盆体、按摩组件、间隔件和供热件,盆体设置有上侧开口的足浴腔;按摩组件位于足浴腔,按摩组件在支撑脚部的同时,可对脚部进行按摩,间隔件装设于足浴腔,间隔模块设置有间隔腔、进水口和出水口,供热件通过对间隔腔的加热作用,可使得间隔腔内的水升温并在供热件的表面产生气泡,供热件的气泡可上浮并带动间隔腔内的水从出水口进入足浴腔,最终进入按摩组件,与脚部进行接触,足浴腔位于进水口附近的水会经进水口进入间隔腔,进而实现足浴腔和间隔腔的水循环,使得足浴腔内的水能够充分与脚部接触,进而提升足浴盆的艾灸效果。

主权项:1.一种按摩足浴盆,其特征在于,包括:盆体,设置有上侧开口的足浴腔;按摩组件,位于所述足浴腔,用于支撑脚部,并对脚部进行按摩;间隔件,装设于所述足浴腔,所述间隔件设置有间隔腔,以及与所述间隔腔连通的进水口和出水口,所述出水口位于所述按摩组件的下方,所述进水口位于所述出水口的下方;供热件,装设于所述间隔腔并位于所述出水口的下方,用于对所述间隔腔内的水进行加热。

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