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摘要：本实用新型涉及足浴设备技术领域，尤其是涉及一种按摩足浴盆；包括盆体、按摩组件、间隔件和供热件，盆体设置有上侧开口的足浴腔；按摩组件位于足浴腔，按摩组件在支撑脚部的同时，可对脚部进行按摩，间隔件装设于足浴腔，间隔模块设置有间隔腔、进水口和出水口，供热件通过对间隔腔的加热作用，可使得间隔腔内的水升温并在供热件的表面产生气泡，供热件的气泡可上浮并带动间隔腔内的水从出水口进入足浴腔，最终进入按摩组件，与脚部进行接触，足浴腔位于进水口附近的水会经进水口进入间隔腔，进而实现足浴腔和间隔腔的水循环，使得足浴腔内的水能够充分与脚部接触，进而提升足浴盆的艾灸效果。
主权项：1.一种按摩足浴盆，其特征在于，包括：盆体，设置有上侧开口的足浴腔；按摩组件，位于所述足浴腔，用于支撑脚部，并对脚部进行按摩；间隔件，装设于所述足浴腔，所述间隔件设置有间隔腔，以及与所述间隔腔连通的进水口和出水口，所述出水口位于所述按摩组件的下方，所述进水口位于所述出水口的下方；供热件，装设于所述间隔腔并位于所述出水口的下方，用于对所述间隔腔内的水进行加热。
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