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申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
摘要：本发明提供了一种线下建立掩膜版缺陷检测程式的方法，属于半导体领域。该线下建立掩膜版缺陷检测程式的方法包括获取掩膜版缺陷检测程式的原始recipe文件；在掩膜版的非曝光区域设置一标记图形并建立掩模版缺陷检测程式中的子recipe文件；将子recipe文件写入原始recipe文件形成目标recipe文件。本发明通过在掩膜版的非曝光区域设置一标记图形，可以在目标recipe文件中直接修改粗对准、精对准，对焦等图形的坐标，写入定义芯片的边界的坐标，以及掩膜版切割道边界的坐标，即可生成该掩膜版对应的掩模版缺陷检测程式。降低了建立掩膜版缺陷检测程式的难度，缩短了建立掩膜版缺陷检测程式的时间，节约了机台的产能。
主权项：1.一种线下建立掩膜版缺陷检测程式的方法，其特征在于，包括：提供一批掩膜版，并获取所述掩膜版缺陷检测程式的原始recipe文件，所述掩膜版具有曝光区域；在所述掩膜版的非曝光区域设置一标记图形，所述标记图形包括材料区和图形区，所述材料区所使用的材料与所述不透光区域所使用的材料相同，所述图形区具有预设图案；基于所述材料区和图形区的预设图案建立掩模版缺陷检测程式中的子recipe文件；将所述子recipe文件写入所述原始recipe文件形成目标recipe文件。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华力集成电路制造有限公司 线下建立掩膜版缺陷检测程式的方法
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