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申请/专利权人：杭州电子科技大学
摘要：本发明公开一种掩埋目标的电磁散射特性测量方法。该方法是将电磁波入射到介质分界面产生透射波和反射波；介质分界面产生的透射波作为第一次入射到掩埋目标的入射波，在掩埋目标表面发生散射；根据掩埋目标产生的散射波结合边界条件计算散射系数；掩埋目标的散射波又入射到介质平面上，再次产生反射波和透射波；重复操作，然后根据介质分界面第一次产生的透射电场以及第2至n次产生的反射电场，求和获得总散射电场。本发明不仅提高了计算效率，而且通过参数调整能够适应多变的地下环境，适用于快速、高效地求解地下各向异性介质导体柱的电磁散射问题，具有广泛的应用前景。
主权项：1.一种掩埋目标的电磁散射特性测量方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：步骤S1、搭建场景在无损介质1的半空间中设置一个掩埋目标，无损介质1上方存在自由空间，自由空间与无损介质1间存在介质分界面；所述掩埋目标为外周涂覆有各向异性的介质2的圆柱导体，其介质2的横截面为圆环结构，其圆心与圆柱导体的横截面圆心重合；步骤S2、电磁波入射到介质分界面产生透射波和反射波；步骤S3：介质分界面产生的透射波作为第一次入射到所述掩埋目标的入射波，在所述掩埋目标表面发生散射；步骤S4：根据所述掩埋目标产生的散射波结合边界条件计算散射系数；步骤S5：所述掩埋目标的散射波又入射到介质平面上，再次产生反射波和透射波；步骤S6：反射波由镜像坐标系转换到全局坐标系；步骤S7：重复步骤S3-S6，直至收敛；然后根据介质分界面第一次产生的透射电场以及第2至n次产生的反射电场，求和获得总散射电场；n表示介质分界面的反射总次数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 杭州电子科技大学 一种掩埋目标的电磁散射特性测量方法
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