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一种离子液体作为连接层实现钙钛矿单晶与CMOS集成的方法 

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申请/专利权人:清华大学

摘要:本发明涉及一种使用离子液体作为连接层实现钙钛矿单晶与CMOS芯片集成的方法。该方法以离子液体作为连接层,与钙钛矿单晶形成新的界面层,即通过化学焊接技术实现了大面积卤化物钙钛矿单晶与CMOS基底的强粘合,提高了X射线探测器的灵敏度和稳定性,为基于CMOS的高性能X射线探测器的集成制造提供了一种有效的解决方案。

主权项:1.一种使用离子液体作为连接层实现钙钛矿单晶与CMOS集成的方法,其包含以下步骤:1将离子液体粉末放置于CMOS基底上,离子液体通过吸湿作用转变为液态;2将钙钛矿单晶置于液态离子液体上并静置;3离子液体与钙钛矿单晶表面反应,形成新的界面层,实现钙钛矿单晶与CMOS的集成。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 清华大学 一种离子液体作为连接层实现钙钛矿单晶与CMOS集成的方法

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