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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；以及选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域。所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平坦衬底的所述边界区域形成。所述叠层设置有机械保护材料，所述机械保护材料被配置成在选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域的步骤期间以机械的方式保护所述边界区域。
主权项：1.一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供叠层，所述叠层包括平坦衬底和至少一个隔膜层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；和选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域，使得所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平坦衬底的所述边界区域形成；其中所述叠层设置有机械保护材料，所述机械保护材料被配置成在选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域的步骤期间以机械的方式保护所述边界区域。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于制造隔膜组件的方法
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