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一种立式耐击穿的栅极介电层MOSFET器件 

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申请/专利权人:杭州谱析光晶半导体科技有限公司

摘要:本发明公开了一种立式耐击穿的栅极介电层MOSFET器件,本发明涉及半导体功率器件技术领域,包括漏极电极,漏极电极的上方设置有导电衬底层,导电衬底层的上端两侧均设置有导电外延层,导电衬底层的上端中部设置有导电柱区,导电柱区的上方设置有栅介质层,两个导电外延层的上方均设置有缓冲结构,两个缓冲结构的上方分别设置有导电扩展层和导电阱区,导电扩展层的上方设置有导电源区,导电源区的上方、栅介质层的上方和导电阱区的上方共同设置有源极电极。该立式耐击穿的栅极介电层MOSFET器件,减少关断状态下的漏电流,能够消除双极退化效应,耐击穿效果好,从而降低开启电压和减小开关损耗,增加栅极介电层的安全可靠性。

主权项:1.一种立式耐击穿的栅极介电层MOSFET器件,包括漏极电极1,其特征在于:所述漏极电极1的上方设置有导电衬底层2,所述导电衬底层2的上端两侧均设置有导电外延层3,所述导电衬底层2的上端中部设置有导电柱区4,所述导电柱区4的上方设置有栅介质层6,所述导电柱区4的上端设置有栅极电极7,两个所述导电外延层3的上方均设置有缓冲结构5,两个所述缓冲结构5的上方分别设置有导电扩展层13和导电阱区7,所述导电扩展层13的上方设置有导电源区12,所述导电源区12的上方、栅介质层6的上方和导电阱区7的上方共同设置有源极电极8,所述源极电极8的一端与缓冲结构5接触,所述源极电极8的上方两侧分别设置有一号耐压层9和二号耐压层10,两个所述导电外延层3内均设置有导电屏蔽区33,所述栅介质层6位于栅极电极7内。

全文数据:

权利要求:

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