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蒸发镀膜设备及其控制方法 

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申请/专利权人:天合光能股份有限公司

摘要:本申请的实施例提供了一种蒸发镀膜设备及其控制方法,涉及镀膜设备技术领域。该设备包括第一腔体、蒸发源装置、第二腔体、载盘和气体流量计,第一腔体包括第一进气口,第一进气口用于通入载气。蒸发源装置设置于第一腔体内,蒸发源装置用于产生蒸发源蒸汽。载盘设置于第二腔体内,载盘用于承载多个基片。气体流量计与第一腔体和第二腔体相连通,气体流量计用于控制载气和蒸发源蒸汽从第一腔体进入第二腔体的速率。上述蒸发镀膜设备可用于蒸发镀膜。

主权项:1.一种蒸发镀膜设备,其特征在于,包括:第一腔体和蒸发源装置,所述第一腔体包括第一进气口,所述第一进气口用于通入载气;所述蒸发源装置设置于所述第一腔体内,所述蒸发源装置用于产生蒸发源蒸汽;第二腔体和载盘,所述载盘设置于所述第二腔体内,所述载盘用于承载多个基片;气体流量计,与所述第一腔体和所述第二腔体相连通,所述气体流量计用于控制所述载气和所述蒸发源蒸汽从所述第一腔体进入所述第二腔体的速率。

全文数据:

权利要求:

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